埃科光电获得发明专利授权:“一种面光源标定方法、相机平场矫正方法、系统及介质”
作者:小微 发表于:2025年03月22日 浏览量:65284

埃科光电获得发明专利授权:“一种面光源标定方法、相机平场矫正方法、系统及介质”
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证券之星消息,根据天眼查APP数据显示埃科光电(688610)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种面光源标定方法、相机平场矫正方法、系统及介质”,专利申请号为CN202411476746.X,授权日为2025年3月21日。

专利摘要:本发明属于图像处理技术领域,尤其涉及一种面光源标定方法、相机平场矫正方法、系统及介质,该矩形面光源标定方法,包括:通过线扫相机采集矩形面光源的平行平面内两个垂直边方向上的矩形面光源区域线扫图像,获取两个矩形面光源区域的像素亮度值二维阵列;旋转任一所述阵列,使其与另一所述阵列相同位置映射所述矩形面光源的同一位置为同型阵列;选取任一所述同型阵列按相对于另一阵列的线扫方向对应的同行/同列亮度值比例换算为平场亮度阵列,以消除线扫像素行方向上光响应不均匀性的干扰;用于标定矩形面光源为均匀矩形面光源。解决了现有的测量方法或无法达到足够的精度,或无法在较短的时间内完成测量的问题。

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今年以来埃科光电新获得专利授权7个,较去年同期减少了46.15%。结合公司2024年中报财务数据,2024上半年公司在研发方面投入了2192.92万元,同比增62.51%。

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数据来源:天眼查APP

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